2025年03月12日 13:37:34《科創(chuàng)板日報(bào)》12日訊，報(bào)道稱三星電子本月初在其華城園區(qū)引入了ASML生產(chǎn)的High NA極紫外光刻（EUV）設(shè)備，希望提升2納米及以下制程的競爭力。 (FNnews)
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